Установка ионно-плазменного нанесения оксидного покрытия

Установка предназначена для формирования эмиссионных покрытий на поверхности кернов катодов электровакуумных приборов методом ионно-плазменного осаждения.

В основе её работы лежит технология реактивного распыления порошкообразной смеси оксидов щелочноземельных металлов. В результате на катодах формируется равномерное молекулярное оксидное покрытие, обеспечивающее высокие эксплуатационные характеристики и долговечность изделий.